k绝缘层/金属栅工艺，以达到更好的效果。
而28nm基本就是晶体管平面结构的最后节点，接下来的3d晶体管finfet、折中的fd-soi、平面体硅三种技术路径，冰芯在拥有胡正明和梁孟淞两员大将的情况下必定直奔finfet。
但是，他们两位在28nm的工艺方案上就有些分歧。
准确的说，是梁孟淞与邱慈云、胡正明在前、后闸极方案上的意见很不同。
梁孟淞团队倾向于后闸极gate-last方案，邱慈云、胡正明他们倾向于前者gate-first。
前闸极方案是ibm为首的技术工艺，后闸极方案则是intel公司。
这种技术争端是让方卓最无计可施的，钱都好说，技术领域……他向来是尊重专业人士。
当专业人士有不同意见……他向来是尊重最专业的人士……
可是，胡正明和梁孟淞这两位摆在面前，那要怎么判断？
方卓对涉及技术的情况还有粗糙的一招，看看龙头企业怎么选。
但是，这一招现在也失效了，因为，台记看起来也存在犹豫，它过去一直支持gate-first，去年却又表态支持ga
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