触—渐进式为主，以及遮蔽式光刻技术。这种原始的光刻机统称为mask aligner，即掩模对准仪。本质上，是一台大型紫外灯。光刻时要把掩模板对准并紧贴硅片，不仅容易在硅片的光刻胶涂层上留下缺陷，导致光刻良率低下，生产一批芯片的合格率往往只有百分之十，同时光刻胶以及浮沉微粒也容易对昂贵的光掩模造成损害。每做十几次光刻，就得更换新的掩模板，生产成本巨大。”
“七十年代，美国pe公司投影式光刻技术的研发成功，使得划时代的micralign 100诞生。这台光刻机利用两片同轴球面镜把光掩模上的图像经过三次反射投射在硅片上，这种对称又简洁的线路设计，可以在保留精度的情况下，彻底分开掩模板和硅片，使光刻良率暴涨到百分之七十，生产成本大幅下降。红白机和个人电脑，因此进入普通百姓家庭。”
“七十年代末，另一家美国公司gca，这个pe出现前的前光刻机霸主不甘被时代抛弃，因此研发出了一种叫做倍缩光掩模的步进式光刻机，并推出了世界上首台自动化步进式光刻机，dsw4800。至此，全球光刻机市场，一直都是漂亮国的内战。然而就在两家生死对决时，德州仪器的工厂里，出现了一家来自海外的光刻
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