这的确会避不可免的暴露一些东西，或许会很快就出现彷制品什么的，从而影响到专利费。
但如果说想要依靠专利文件和论文中的那些东西来百分百还原的核心产品，基本是做不到的。
毕竟谁申请专利会将核心完整过程全都丢上去啊。
在制造过程中删减一些材料配比什么不是再正常不过的吗？
就好比黑火药的配方一样，如果配比不正确，制造出来的黑火药顶多放个响而已，至于杀伤力，那基本没多少。
人工SEI薄膜也一样，摸索不到正确的制造过程，制造出来薄膜尽管同样能在一定程度上抑制锂枝晶的生成，但析锂和搬运锂离子的效率什么，可就差太多了。
此外，还有一个较为关键的点是。
这项技术从根本上来说并不是他自己研发出来的。
这份人工SEI薄膜技术，是因为重生的关系，他从米国其他实验室获取到的，距离真正的研发出来，其实也没几年的时间了。
甚至说不定现在那个研究所就已经在研究这东西了。
他现在不抓紧时间将相关的专利申请下来，等对方弄出来就真挣不到什么外国老的钱了。
而且保密不申请
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